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Magnetorresistência em Filmes Finos depositados pelo método de Magnetron Sputtering

Resumo do projeto

O processo experimental proporciona ao aluno uma melhor forma de aprendizagem pois o aluno não fica somente observando a matéria sendo aplicada, mas sim manipulando os materiais ao realizar os experimentos. A inserção da contextualização da Magnetorresistência Gigante, para os alunos do Ensino Médio é de grande importância pelo fato desta tecnologia estar presente nosso dia a dia. Introduzir conceitos teóricos buscando despertar a curiosidade dos estudantes, contribui imensamente para com o desenvolvimento acadêmico dos estudantes. As medições de refletividade (baixo ângulo) dos filmes feitos de materiais a serem depositados foram realizadas e com isso determinamos as taxas de deposição para o Co e Cu como sendo 0,25 Angstron/s e 1,07 Angstron/s, respectivamente. Desta forma partimos para a etapa seguinte de deposição. Realizamos a caracterização de um filme [Co(10 Å)/Cu(15 Å)]15 atráves de medidas de resistência, utilizando o método de quatro pontas sob ação de campo magnético variando de -1,5 T até 1,5 T, tendo apresentado Magnetorresistência (MR) de aproximadamente 3,5% à temperatura ambiente e 7% à 50 K. O filme caracterizado foi preparado utilizando o equipamento Magnetron Sputtering à temperatura ambiente. Concluímos que a presente amostra depositada apresenta-se promissora para utilização no sensor, constando na literatura que alterando-se as espessuras e quantidade de camadas, possa se obter MR de até 40% à temperatura ambiente. O circuito do sensor se encontra em estágio inicial, necessitando de mais aprimoramento. Uma base de testes para o filme foi feita utilizando o software de modelagem 3D Sketchup. Palavras chave: Filmes finos, magnetorresistência gigante, Magnetron Sputtering

Alunos

Raphael Nunes da Silva Moreira Souza

Orientadores

Isabel Liz Castro Merino

Instituição

Centro Federal de Educação Tecnológica Celso Suckow da Fonseca (CEFET RJ) – Campus Maracanã
Rio de Janeiro /
  Rio de Janeiro –  
  RJ –
  Brasil

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Waldir da Silva Souza
Waldir da Silva Souza
4 anos atrás

Trabalho muito interessante e promissor em razão da enorme variedade de uso dos filmes finos nas mais variadas áreas. E a compreensão dos efeitos da Magnetorresistência torna-se fundamental!! Parabéns pelo projeto, contribuindo para o desenvolvimento do espírito de pesquisa nos novos pesquisadores, quanto para o desenvolvimento científico do país!! Sucesso!!

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